2017 차세대 반도체소자 워크샵
판교 반도체 협회 9층 강당   /   2017년 03월 24일
 
행사가 개최되었습니다.

세부프로그램

시간 프로그램 강연 
09:10~09:50 워크샵 등록 등록데스크
09:50~10:00 개회사 전영현 회장
(반도체소사이어티)
Session 1: 차세대 메모리 소자 기술
좌장 : 조일환 교수(명지대)
10:00~10:40 STT-MRAM technology toward high density non-volatile working memory 정성웅 연구위원
(SK하이닉스)
10:40~11:20 X-point 메모리 소자용 Selector 소자 기술 황현상 교수
(포항공대) 
11:20~12:00 A new ruler on the storage market: 3D-NAND flash for high-density memory And
its technology evolutions and challenges on the future
임준희 마스터
(삼성전자)
12:00~13:20 중식
Session 2: 차세대 시스템 반도체 소자 
좌장 : 이희덕 교수(충남대)
13:20~14:00 반데르발스 물질 이종접합 기반 다진법 로직소자 박진홍 교수
(성균관대)
14:00~14:40 New opportunity of high mobility channel
for monolithic 3D integration
김상현 박사
(KIST)
14:40~15:00 Coffee Break
15:00~15:40 차세대 반도체 소자 개발을 위한 Computational Screening 기술 이효석 박사
(삼성전자/종기원)
15:40~16:20 A 3-Dimensional Carbon Nanotube Field Effect Transistor 최양규 교수
(KAIST)
16:20~17:00 5 나노향 FinFET strain technology 배동일 수석
(삼성전자)
17:00~ 폐회
* 주최측의 사정으로 프로그램이 일부 변경될 수 있습니다.

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